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歯科用インプラント及び歯科用インプラントの表面処理方法
专利权人:
GC CORP
发明人:
TAKAGI TAKAMITSU,高木 隆光,YAMANAKA KATSUYUKI,山中 克之,NOGUCHI TSUYOSHI,野口 剛志
申请号:
JP2011004444
公开号:
JP2012143416A
申请日:
2011.01.13
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an implant that has macro pores having an inner diameter with the level of several tens of &mum and micro pores having an inner diameter of 1-2 &mum while having pores with the nanometer level in the surface.SOLUTION: The implant has the surface that has the macro pores having the inner diameter with the level of several tens of &mum and micro pores having the inner diameter of 1-2 &mum and comprises nano discharge craters having an inner diameter with the level of several tens of nm. The surface treatment method includes steps of producing the macro pores having the inner diameter with the level of several tens of &mum by acid treatment of the surface producing the micro pores having the inner diameter of 1-2 &mum by blast treatment of the implant surface and producing the nano discharge craters having an inner diameter with the level of several tens of nm by anodic oxidation treatment of the implant surface.COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT【課題】 表面にナノメートルレベルの孔を有しながら数十マイクロメートルレベル内径のマクロ孔と1~2マイクロメートル内径のミクロ孔を有するインプラントを提供する。【解決手段】 数十マイクロメートルレベル内径のマクロ孔を有し、かつ、1~2マイクロメートル内径のミクロ孔を有し、かつ、数十ナノメートルレベル内径のナノ放電痕からなる表面をもつインプラントとする。その表面処理方法を、表面を酸処理することにより数十マイクロメートルレベル内径のマクロ孔を作製する行程、インプラント表面をブラスト処理することにより1~2マイクロメートル内径のミクロ孔を作製する行程、インプラント表面を陽極酸化処理することにより数十ナノメートルレベル内径のナノ放電痕を作製する行程から成るインプラントの表面処理方法とする。【選択図】 図3
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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