In an imaging apparatus (1), the optical axis of an imaging unit (6) and the illumination positions illuminated by light sources (5) are adjusted by forming a slope (12) on one surface side of a pedestal (3) and fixing, along the slope (12) of the pedestal (3), a flexible substrate (4) on which the light sources (5) are disposed. Thus, the adjustment of the illumination positions is facilitated by adjusting the optical axes of the light sources (5) all at once by shaping the substrate (4) along the slope (12) of the pedestal (3), and not by adjusting the optical axis of each of the light sources (5) individually. Furthermore, because the heat generated at the light sources (5) is radiated through the pedestal (3), the light sources (5) dissipate heat exceptionally well. The output stability of the light sources (5) is thereby excellently maintained.Selon l'invention, dans un appareil de formation d'image (1), l'axe optique d'une unité de formation d'image (6) et les positions d'éclairage éclairées par des sources de lumière (5) sont réglés en formant une pente (12) sur un côté de surface d'un socle (3) et en fixant, le long de la pente (12) du socle (3), un substrat souple (4) sur lequel les sources de lumière (5) sont disposées. Ainsi, le réglage des positions d'éclairage est facilité par le réglage des axes optiques de toutes les sources de lumière (5) en même temps en formant le substrat (4) le long de la pente (12) du socle (3) plutôt que par le réglage de l'axe optique de chacune des sources de lumière (5) individuellement. En outre, étant donné que la chaleur générée au niveau des sources de lumière (5) est émise à travers le socle (3), les sources de lumière (5) dissipent la chaleur de façon particulièrement efficace. La stabilité de sortie des sources de lumière (5) est ainsi parfaitement maintenue.撮像装置１では、台座３の一面側に傾斜面１２を形成し、光源５が配置された可撓性の基板４を台座３の傾斜面１２に沿って固定することで、撮像部６の光軸と光源５による照明位置とが調整されている。このように、各光源５の光軸を個別に調整するのではなく、基板４を台座３の傾斜面１２に沿わせることで光源５の光軸を一度に調整することで、照明位置
