Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben eines implantierten, ventrikulären Unterstützungssystems (2), umfassend folgende Schritte: a) Bestimmen eines ersten Impedanzparameters zu einem ersten Zeitpunkt mittels des Unterstützungssystems (2), b) Bestimmen eines zweiten Impedanzparameters zu einem zweiten Zeitpunkt mittels des Unterstützungssystems (2), c) Zumindest Ermitteln einer Änderung des Impedanzparameters unter Verwendung des ersten Impedanzparameters und des zweiten Impedanzparameters oder Vergleichen zumindest des ersten oder zweiten Impedanzparameters mit einem Schwellenwert.The invention relates to a method for operating an implantable ventricular assist system (2), comprising the following steps: a) determining a first impedance parameter at a first time by means of the assist system (2), b) determining a second impedance parameter at a second time by means of the assist system (2), c) at least determining a change in the impedance parameter using the first impedance parameter and the second impedance parameter or comparing at least the first or second impedance parameter with a threshold value.L'invention concerne un procédé pour faire fonctionner un système de support ventriculaire (2) implantable, comprenant les étapes suivantes : a) la détermination d'un premier paramètre d'impédance à un premier moment au moyen du système de support (2), b) la détermination d'un deuxième paramètre d'impédance à un deuxième moment au moyen du système de support (2), c) au moins la détermination d'une modification du paramètre d'impédance par l'utilisation du premier paramètre d'impédance et du deuxième paramètre d'impédance ou la comparaison d'au moins le premier ou le deuxième paramètre d'impédance à une valeur de seuil.
