A compound of formula II in which Z is C or N and the Z ring is optionally further substituted； R1 is H, lower alkylcarbonyl, hydroxy-lower alkyl or cyano-lower alkyl； and R2 is a group selected from (b), (c), and (d):式（II）：［式中、（ａ）は、非置換であるか、又は低級アルキル、ハロ－低級アルキル、ヒドロキシ－低級アルキル、低級アルコキシ－低級アルキル、アシルオキシ－低級アルキル、フェニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、ヒドロキシ－低級アルコキシ、低級アルコキシ－低級アルコキシ、フェニル－低級アルコキシ、低級アルキルカルボニルオキシ、アミノ、モノ（低級アルキル）アミノ、ジ（低級アルキル）アミノ、モノ（低級アルケニル）アミノ、ジ（低級アルケニル）アミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルカルボニルアミノ、置換アミノ（ここで、窒素上の２個の置換基は、窒素と一緒になって、ヘテロシクリルを形成する）、低級アルキルカルボニル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、シアノ、ハロゲン、及びニトロから独立して選択される１又は２個の更なる置換基により置換されているか；又は、２個の隣接する置換基がメチレンジオキシであることができる二価ベンゼン残基；あるいは非置換であるか、又は低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルコキシ－低級アルコキシ、アミノ（低級アルキル、低級アルケニル及びアルキルカルボニルより選択される１又は２個の置換基により場合により置換されている）、ハロ－低級アルキル、低級アルコキシ－低級アルキル、もしくはハロゲンにより更に置換されている二価ピリジン残基（Ｚ＝Ｎ）を表し；Ｒ１は、水素、低級アルキルカルボニル、ヒドロキシ－低級アルキル又はシアノ－低級アルキルを表し；そしてＲ２は、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）より選択される基を表す］で示される化合物；又はその薬学的に許容しうる塩。
