Materials and apparatus are provided for a skin cleaning composition with a cationic deposition component. The skin cleaning composition includes a keratolytic skin peeling ingredient. The skin cleaning composition further includes at least one surfactant. The skin cleaning composition further includes a cationic deposition component to enhance deposition of the keratolytic skin peeling ingredient onto the skin.Matières et appareil destinés à une composition de nettoyage de la peau contenant un composant cationique favorisant le dépôt. La composition de nettoyage de la peau comprend un ingrédient kératolytique de gommage cutané. La composition de nettoyage de la peau comprend en outre au moins un tensioactif. La composition de nettoyage de la peau comprend en plus un composant cationique favorisant le dépôt pour améliorer le dépôt de l'ingrédient kératolytique de gommage cutané sur la peau.
