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化粧品基材及び該化粧品基材を含有する化粧品
专利权人:
株式会社成和化成
发明人:
吉岡 正人,小林 恵理子,笠原 淳仁,稲垣 淳司,戸叶 隆雄,中村 清香
申请号:
JP2011537784
公开号:
JP4947749B1
申请日:
2011.04.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
A cosmetic base material composed of a peptide or peptide derivative having one or more acidic amino acid as the constituent amino acid and in which at least some of anionic functional groups thereof form an ion complex with at least one surfactant selected from the group consisting of cationic surfactants and ampholytic surfactants.【課題】損傷によって毛髪表面の疎水性が失われて官能的特性が低下した毛髪表面を疎水化し、毛髪に柔軟性、保湿性、滑らかさ、艶やかさを付与する化粧品基材と該化粧品基材を含有する化粧料を提供する。【解決手段】構成アミノ酸に酸性アミノ酸を有するペプチド又はペプチド誘導体であって、少なくともその陰イオン性官能基の一部がカチオン界面活性剤及び両性界面活性剤よりなる群から選ばれる1種以上の界面活性剤とイオンコンプレックスを形成しているペプチド又はペプチド誘導体からなることを特徴とする化粧品基材及び該化粧品基材を含有する化粧料。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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