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INTERVERTEBRAL IMPLANT
专利权人:
비이더만 테크놀로지스 게엠베하 & 코. 카게;BIEDERMANN TECHNOLOGIES GMBH & CO. KG
发明人:
BIEDERMANN LUTZ,비이더만 루쯔,MATTHIS WILFRIED,맷티스 빌프리트
申请号:
KR1020120150882
公开号:
KR1020130079206A
申请日:
2012.12.21
申请国别(地区):
KR
年份:
2013
代理人:
摘要:
PURPOSE: An intervertebral implant is provided to be used for intervertebral disc replacement, and have a simple design with few parts, for convenient handling. CONSTITUTION: An intervertebral implant comprises a monolithic body with an upper wall (1) configured to engage a first vertebral end plate and a lower wall configured to engage a second vertebral end plate, with two opposite sidewalls (3,4) connecting the upper wall and the lower wall, respectively, and with a load transmitting part (8) configured to transmit load between the upper wall and the lower wall. The monolithic body is configured to assume a compressed condition in which a distance between the upper wall and the lower wall defines a first height of the implant and an expanded condition in which the distance between the upper wall and the lower wall defines a second height of the implant that is greater than the first height. The implant is made of a material that exhibits shape memory properties that cause the implant to change from the compressed condition to the expanded condition.제 1 척추골 단부판과 맞물리도록 구성된 상측벽(1) 및 제 2 척추골 단부판과 맞물리도록 구성된 하측벽(2)과, 상기 상측벽과 하측벽을 각각 연결하는 서로 반대측의 두개의 측벽(3, 4)과, 상기 상측벽과 하측벽 사이에 하중을 전달하도록 구성된 하중전달부(8; 80, 81)를 구비하는 단일편 중공체를 포함하며, 상기 단일편 중공체는 상기 상측벽(1)과 하측벽(2) 사이의 거리가 임플란트의 제 1 높이(h1)를 규정하는 압축 상태와 상기 상측벽(1)과 하측벽(2) 사이의 거리가 상기 제 1 높이(h1)보다 큰 임플란트의 제 2 높이(h2)를 규정하는 확장 상태를 취하도록 구성되어 있으며, 상기 임플란트는 형상기억 특성을 나타내는 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는 추간 임플란트가 제공된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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