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一种印第安纹的多点深层定位剥离祛除方法
- 专利权人:
- 博恩美荟剥离美学(深圳)有限公司
- 发明人:
- 陈文钰,陈永吉
- 申请号：
- CN202110600322.X
- 公开号：
- CN113331913A
- 申请日:
- 2021.05.31
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2021
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种印第安纹的多点深层定位剥离祛除方法，包括以下步骤：步骤一，面部清洁；步骤二，局部麻醉；步骤三，多点定位；步骤四，消毒杀菌；步骤五，器材消毒；步骤六，浅层剥离；步骤七，深层剥离；步骤八，面部消肿；步骤九，术后修复，本发明通过分别在皮肤的浅层和深层进行剥离刺激，实现了多层次的刺激修复，并且通过定位点的设置，实现了定点定位的刺激修复，剥离之前对皮肤进行清洁，并且对剥离区域进行两次消毒，同时对剥离微针同样进行消毒杀菌，降低了剥离后皮肤感染的风险，通过在术后定时周期性的涂覆ACMETEA和皮肤保湿修护敷料，并且在术后7‑10d之后敷含有玻尿酸的面膜，有利于缩短术后恢复周期。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
