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一种印第安纹的多点深层定位剥离祛除方法
- 专利权人:
- 博恩美荟剥离美学(深圳)有限公司
- 发明人:
- 陈文钰,陈永吉
- 申请号:
- CN202110600322.X
- 公开号:
- CN113331913A
- 申请日:
- 2021.05.31
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2021
- 代理人:
- 摘要:
- 本发明公开了一种印第安纹的多点深层定位剥离祛除方法,包括以下步骤:步骤一,面部清洁;步骤二,局部麻醉;步骤三,多点定位;步骤四,消毒杀菌;步骤五,器材消毒;步骤六,浅层剥离;步骤七,深层剥离;步骤八,面部消肿;步骤九,术后修复,本发明通过分别在皮肤的浅层和深层进行剥离刺激,实现了多层次的刺激修复,并且通过定位点的设置,实现了定点定位的刺激修复,剥离之前对皮肤进行清洁,并且对剥离区域进行两次消毒,同时对剥离微针同样进行消毒杀菌,降低了剥离后皮肤感染的风险,通过在术后定时周期性的涂覆ACMETEA和皮肤保湿修护敷料,并且在术后7‑10d之后敷含有玻尿酸的面膜,有利于缩短术后恢复周期。
- 来源网站:
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址:
- http://www.ckcest.cn/home/