Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren und dem System zur Lokalisierung wird eine relative Lage eines ersten Objekts zu einem zweiten Objekt mittels Verwendung eines durch einer auf dem ersten und zweiten Objekt verteilten Anordnung zur Magnetfelderzeugung erzeugten 2n-poligen Magnetfelds ermittelt, mit n größer oder gleich dem Wert 2.In the method according to the invention and the system for localization, a relative position of a first object to a second object by use of a by a on the first and second object distributed arrangement for producing a magnetic field generated 2n - polar determined, with n is greater than or equal to the value 2.
