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DEVICE FOR IMMISSION REDUCTION
专利权人:
피치, 유르겐;PIETSCH JURGEN
发明人:
피치, 유르겐,PIETSCH JURGEN,PIETSCH JURGENDE
申请号:
KR1020180052119
公开号:
KR1020190108454A
申请日:
2018.05.04
申请国别(地区):
KR
年份:
2019
代理人:
摘要:
The present invention relates, in particular, to an imicyion abatement device for binding particulates, and aims at providing an apparatus which enables effective air purification at the minimum possible expense and acceptable cost. In order to achieve this, the present invention comprises a vertical holding device 2 for binding the fine particles, wherein a plurality of plate supports 3 are arranged, each of the plurality of plate supports 3 being perpendicular to each other. Each of the plate-shaped supports 3 has an upper support surface 4 on which a moss layer 5 is disposed, and a lower surface 6 that is opposite to the upper support surface 4. The upper support surface 4 is arranged horizontally or inclined in a vertical direction such that an angle formed with the horizontal direction is at most 45 °, and the plate-shaped supports 3 adjacent to each other are vertically disposed in the vertical direction. A device (1) spaced apart from each other is provided to maintain a clear gap (7) between the selection layer (5) of the plate support (3) and the lower side of the plate support (3).본 발명은 특히, 미립자를 바인딩(binding)하는 이미시온 저감장치에 관한 것이고, 가능한 최소한의 지출 및 허용 가능한 비용으로 효과적인 공기정화를 가능하게 하는 장치를 제공하는 것을 목적으로한다. 이를 달성하기 위해 본 발명은 미립자를 바인딩(binding)하되, 복수의 판형 서포트(3)가 배치되는 수직의 홀딩 디바이스(2)를 포함하고, 복수의 상기 판형 서포트(3) 각각은 서로 수직방향으로 배치되고, 각각의 상기 판형 서포트(3)는 선태층(moss layer)(5)이 배치되는 상측 서포트면(4)과, 상기 상측 서포트면(4)의 반대면인 하측면(6)을 가지고, 상기 상측 서포트면(4)은, 수평으로 배치되거나, 또는 수평방향과 이루는 각도가 최대 45°가 되도록 수직방향으로 기울어져 배치되고, 서로 이웃하는 상기 판형 서포트(3)는, 수직방향으로 상기 판형 서포트(3)의 상기 선태층(5)과 상기 판형 서포트(3)의 상기 하측면 사이에 클리어갭(7)을 유지하도록 서로 이격되는 장치(1)를 제공한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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