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一种设施蔬菜土垄间沟内嵌膜限根栽培方法
专利权人:
中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所
发明人:
刘文科
申请号:
CN201711174234.8
公开号:
CN107667796A
申请日:
2017.11.22
申请国别(地区):
中国
年份:
2018
代理人:
邱晓锋
摘要:
本发明涉及一种设施蔬菜土垄间沟内嵌膜限根栽培方法。该方法包括:1)在田间土壤中沿南北向进行起垄和挖沟,形成垄、沟相间排布的土壤结构;2)在沟内设置用于限根栽培的柔性薄膜或栽培容器,所述柔性薄膜或栽培容器内填入栽培介质;3)在栽培介质中种植蔬菜,实现蔬菜的土壤栽培或无土栽培,在栽培过程中通过土垄遮挡和吸收阳光辐射,使沟内的栽培介质降低温度并增强维持低温的能力。步骤2)将柔性薄膜贴覆于栽培土槽的内壁上,然后填入栽培介质,或者采用硬质容器作为栽培容器,然后填入栽培介质。本发明能够实现设施蔬菜限根栽培,降低根区温度,提高水肥利用率,阻断养分向地下水淋洗。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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