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一种有机物清洁及残留检测装置及方法
- 专利权人:
- 福建华佳彩有限公司
- 发明人:
- 张梦姿,张麒麟
- 申请号：
- CN202111300335.1
- 公开号：
- CN113843222A
- 申请日:
- 2021.11.04
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2021
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种有机物清洁及残留检测装置及方法，包括密闭腔体以及控制模块，在密闭腔体内放置坩埚或掩模板，在密闭腔体内设置紫外光灯以及漫反射板，且密闭腔体上连接有用于通入气体的进气端且连接有用于排出气体的出气端，在进气端以及出气端均设置检测进气的水分含量的水百分比传感器以及管路控制阀，向着密闭腔体内通入干燥空气或氮气，配合紫外光灯的照射以及漫反射板辅助紫外光覆盖，利用紫外光灯光照射在工件表面，有机物受紫外光照射C‑H键破坏后裂解成H2O、CO2、NO等气体产物，紫外清洁的原理能够有效的实现有机物的清洁，对工件进行杀菌清洁，密闭腔体供坩埚或者掩模板的长期存放，避免环境颗粒杂质的污染，有利于提升蒸镀良率。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
