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ビタミンDの形成のために最適化された日焼け止め製剤
专利权人:
ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア
发明人:
ヘルツォーク,ベルント,ココット,ディーター,フレッセル-ミューラー,ハイケ
申请号:
JP2017503845
公开号:
JP2017521463A
申请日:
2015.07.24
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
(A) triazine derivative (b) cinnamic acid derivative (c) bis-resorcinyl triazine (f) benzimidazole derivative (i5(K) diarylbutadiene derivative (l) phenylbenzotriazole derivative (n) benzylidenemalonate (o) benzylidene malonate3) At least one UV filter (A) selected from (salicylic acid TEA (r) imidazoline derivative (u) inorganic UV filter selected from metal oxides (v) naphthalate and (w) merocyanine derivatives (D) an aminobenzophenone derivative (e) a dibenzoylmethane derivative (g) a , -diphenylacrylate derivative (i5Different camphor derivatives (o3A sunscreen formulation comprising at least one UV filter (B) selected from different salicylate derivatives (p) anthranilate derivatives and (s) benzalmalonate derivatives, wherein cholecalciferol D3) In order to increase the permeability of UV radiation on human skin for the production of human skin and at the same time to protect human skin against UV radiation when exposed to sunlight, For use in a method comprising applying the sunscreen formulation to a previtamin D3Effective irradiance for formation EPvdAnd the effective dose E for erythema formation in the skinErTo the sunscreen formulation, wherein the ratio R is at least 1.8.Selection drawing None本発明は、(a)トリアジン誘導体(b)ケイヒ酸誘導体(c)ビス-レゾルシニルトリアジン(f)ベンゾイミダゾール誘導体(i5)4-メチルベンジリデンカンファー(h)ベンゾイルピペラジン誘導体(j)ベンゾオキサゾール誘導体(k)ジアリールブタジエン誘導体(l)フェニルベンゾトリアゾール誘導体(n)ベンジリデンマロネート(o3)サリチル酸TEA(r)イミダゾリン誘導体(u)金属酸化物から選択される無機UVフィルター(v)ナフタレート及び(w)メロシアニン誘導体から選択されるUVフィルター(A)の少なくとも1種を含み並びに場合によっては、(d)アミノベンゾフェノン誘導体(e)ジベンゾイルメタン誘導体(g)β,β-ジフェニルアクリレート誘導体(i5)異なるカンファー誘導体(o3)異なるサリチレート誘導体(p)アントラニレート誘導体及び(s)ベンザルマロネート誘導体から選択されるUVフィルター(B)の少なくとも1種を含む日焼け止め製剤であって、コレカルシフェロール(プレビタミンD3)の産生のためにヒトの皮膚でのUV放射の透過率を増大させるために、及び同時に、日光に曝された際にUV放射に対してヒトの皮膚を保護するための方法であり、皮膚に前記日焼け止め製剤を適用することを含む方法において使用するために、プレビタミンD3形成に対する有効照射量(effective irradiance)Epvdと皮膚での紅斑形成に対する有効照射量Eerとの比Rが少なくとも1.8である、日焼け止め製剤に関する。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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