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Drain valve adjusting method
专利权人:
ソフィサ
发明人:
ネーグル,フィリップ
申请号:
JP2019541276
公开号:
JP2020505173A
申请日:
2018.02.01
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
Embedded valveAn impacted valve especially intended to treat hydrocephalusApparatus for adjusting the opening pressure ofThe valveIncludes rotor of rotary shaftWhereThe angular position determines the opening pressureThe valveIncludes a locator including a key including a rotor actuator micromagnet that is movable between the first insertion depth and the second insertion depth;The second insertion depth is less than the first insertion depth;When the locator is placed on the patient's skin where the locator is implanted under the patient's skinThe actuator magnet acts to unlock the rotor at the first insertion depth and to be rotatably coupled to the rotor at the second insertion depthAbove equipment.Diagram埋め込み型弁、特に水頭症の処置を意図された埋め込み型弁、の開口圧力を調節する為の装置であって、該弁は、回転軸のロータを含み、ここで、その角度位置が開口圧力を決定する、該弁は、第1の挿入深さと第2の挿入深さとの間で移動可能であるローターアクチュエータマイクロ磁石を含むキーを含むロケータを含み、該第2の挿入深さは該第1の挿入深さよりも小さく;該ロケータが患者の皮膚の下に植え込まれたところの患者の皮膚にくっつけて該ロケータが配置される場合、該第1挿入深さで該ロータのロック解除をし且つ該第2挿入深さで該ロータに回転結合されるように設計された磁場を前記アクチュエータ磁石は作用させる、上記装置。【選択図】図2
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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