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SELECTIVE ANTIBACTERIAL MEMBER SUPPRESSING INCREASE OF BAD BACTERIA AND SELECTIVE ANTIBACTERIAL PRODUCT USING THE MEMBER
专利权人:
日本エクスラン工業株式会社;JAPAN EXLAN CO LTD
发明人:
KOMIYAMA TAKUZO,小見山 拓三
申请号:
JP2018226260
公开号:
JP2019099577A
申请日:
2018.12.03
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
To provide selective antibacterial products that suppresses an increase of bad bacteria among indigenous bacteria of skin, because although a utilization field of an antibacterial raw material covers many fields such as cosmetics, face masks, under wears, and bedding, an antibacterial agent removes not only bad bacteria such as staphylococcus aureus that causes skin infection or food poisoning also good bacteria such as skin Staphylococcus that keeps health of skin, therefore, one that suppresses a function of bad bacteria among indigenous bacteria and is benign to good bacteria was required, it was very difficult to obtain according to a conventional technology.SOLUTION: A selective bacterial member that suppresses an increase of bad bacteria characterized by an amount of H type carboxyl group of 0.2 to 3.0 mmol/g, and an amount of a salt type carboxyl group that makes a metal ion of divalent or more a pair ion of smaller than 0.5 mmol/g, in a member containing a raw material having the H type carboxyl group.SELECTED DRAWING: None【課題】抗菌素材の利用分野は化粧品、フェイスマスク、肌着、寝具等多岐にわたる。しかし、抗菌剤は皮膚感染症や食中毒を引き起こす黄色ブドウ球菌などの悪玉菌だけでなく、肌を健康に保つ表皮ブドウ球菌などの善玉菌も排除してしまう。このため、常在菌のうち悪玉菌の働きを抑え、善玉菌に対しては無毒のものが求められるが、従来の技術ではそれが困難であった。本発明は、かかる従来技術の現状に鑑みて創案されたものであり、その目的は、肌の常在菌のうち悪玉菌の増殖を抑える選択的抗菌用製品を提供することにある。【解決手段】H型カルボキシル基を有する素材を含有する部材において、H型カルボキシル基の量が0.2~3.0mmol/gであり、かつ、2価以上の金属イオンを対イオンとする塩型カルボキシル基の量が0.5mmol/g未満であることを特徴とする悪玉菌の増殖を抑える選択的抗菌用部材。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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