庆大霉素、链霉素、新霉素分子印迹整体分离柱及其制备方法
- 专利权人:
- 湖南纽尔科技有限公司
- 发明人:
- 陈波,马金余,刘程
- 申请号：
- CN200510031112.4
- 公开号：
- CN1292250C
- 申请日:
- 2005.01.06
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2006
- 代理人:
- 赵静华
- 摘要：
- 本发明公开了应用于测定动物源食品中庆大霉素、链霉素、新霉素残留量的高选择性分离的分子印迹整体柱及其制备方法。以庆大霉素、链霉素、新霉素作分子模板，在空柱中进行原位结合，制备庆大霉素、链霉素、新霉素分子印迹整体柱，柱中填料是一种有固定孔穴大小和形状及有确定排列功能基团的交联聚合物，它对庆大霉素、链霉素、新霉素模板分子的立体结构具有“记忆”功能。用于此分子印迹整体柱可对残留分析样品溶液中庆大霉素、链霉素、新霉素进行高选择性分离。本印迹整体柱较普通反相C18分离柱有更强的保留，不需离子对试剂参与分离，流动相可与质谱很好的兼容。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
