PATTERN TRIMMING COMPOSITIONS AND METHODS
- 专利权人:
- ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
- 发明人:
- KEVIN ROWELL,CONG LIU,CHENG BAI XU,IRVINDER KAUR,JONG KEUN PARK
- 申请号：
- KR20180123700
- 公开号：
- KR20180116195(A)
- 申请日:
- 2018.10.17
- 申请国别(地区):
- 韩国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 포토레지스트 패턴 트리밍 조성물은 0.26 노르말농도의 테트라메틸암모늄 수산화물 수용액에 가용성인 폴리머; 및 용매계를 포함하며, 여기서 용매계는 용매계 기준으로 50 내지 98 중량%의 조합된 양으로 하나 이상의 모노에테르 용매를 포함한다. 상기 조성물은 반도체 소자의 제조에 있어서의 특정 적용가능성이 발견된다.
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
