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一种西瓜的种植方法
专利权人:
曹正祥
发明人:
曹正祥
申请号:
CN201610663678.7
公开号:
CN106233993A
申请日:
2016.08.15
申请国别(地区):
中国
年份:
2016
代理人:
闫艳艳
摘要:
本发明公开了一种西瓜的种植方法,所述去除黏膜后进行用1000 倍液的甲基托布津浸种3‑5h,可以防枯萎病,提高产量,所述铺设内膜和稻草后,再铺有电热丝,可以根据需要调节营养土钵的温度,所述覆盖地膜后营养土钵的温度的控制,可以促进出苗的同时,有利于移栽,所述移栽前对大田内施加基肥,可以提高大田内的营养组成,从而进一步提高产量,所述田间管理的同时进行吸甜处理,可以达到高产增甜的目的,所述肥料管理为加入生物菌肥,可以在降低种植肥料资本投入的同时提高产量,采用此种种植方法种植出来的西瓜具有甜度大以及成本低的优点,市场前景广阔。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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