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식물의 저온 스트레스 내성과 관련된 신규 유전자 및 그의 용도
专利权人:
发明人:
KIM, WOO TAEKKR,김우택,CUI LI HUACN,최려화,BYUN, MI YOUNGKR,변미영
申请号:
KR1020150103651
公开号:
KR1016884230000B1
申请日:
2015.07.22
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要:
The present invention provides a composition for promoting cold stress resistance comprising a nucleotide sequence coding nucleus localized RING E3 ligase (OsNLR) of a plant. According to the present invention, the composition is involved in resistance to cold stress of the plant, and transgenic plant cells and plants of the present invention are excellent in resistance to cold stress, thereby being able to be usefully used as new crops regardless of the climate in cultivated areas.COPYRIGHT KIPO 2017본 발명은 식물체의 OsNLR(Nucleus Localized RING E3 Ligase) 단백질을 코딩하는 뉴클레오타이드 서열을 포함하는 저온 스트레스 내성 증진용 조성물을 제공한다. 본 발명에 따르면, 본 발명의 조성물은 식물체의 저온 스트레스에 대한 내성에 관여를 하며, 본 발명의 형질전환 식물세포 및 식물체는 이들 저온 스트레스에 대한 내성이 탁월하여 재배지역의 기후에 구애받지 않는 신기능 작물로 유용하게 이용될 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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