Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben einer Plasmavorrichtung mit einer ersten Kammer und einer zweiten Kammer, wobei das Verfahren die folgenden Schritte aufweist, nämlich ein Einleiten eines ersten Gasgemisches in die erste Kammer, ein Ionisieren des ersten Gasgemisches in der ersten Kammer zum Erzeugen eines ersten kalten Plasmas oder eines zweiten Gasgemisches, ein Einleiten des in der ersten Kammer erzeugten ersten kalten Plasmas oder zweiten Gasgemisches und eines dritten, vom ersten Gasgemisch verschiedenen Gasgemisches in die zweite Kammer, so dass sich in der zweiten Kammer das dritte Gasgemisch mit dem ersten kalten Plasma oder dem zweiten Gasgemisch mischen und zu einem zweiten kalten Plasma oder einem vierten, reaktiven Sauerstoff- und/oder Stickstoffspezies enthaltenden Gasgemisch reagieren, Darüberhinaus betrifft die Erfindung eine Plasmavorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas und eine Steuereinheit.The invention relates to a method for operating a plasma treatment with a first chamber and a second chamber, wherein said method comprising the steps of, namely a introduction of a first gas mixture into the first chamber, the ionisation of the first gas mixture, in the first chamber for generating a first cold plasma or of a second gas mixture, an initiation of the in the first chamber generated first cold plasma or second gas mixture and a third, from the first gas mixture of different gas mixture into the second chamber, so that in the second chamber, the third gas mixture with the first cold plasma or the second gas mixture mixing and to a second cold plasma or a fourth, reactive oxygen - and / or nitrogen species react gas mixture containing, in addition, the invention relates to a plasma treatment for generating a plasma and a control unit.
