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Procedimiento para procesar superficies cilíndricas de piezas de zafiro, un par de pistones de zafiro y una bomba de dosificación basada en los mismos
专利权人:
Obschestvo S Ogranichennoy Otvetstvennostyu "Farmasapfir"
发明人:
SAVENKOV, Vitaly Alekseevich
申请号:
ES13868960
公开号:
ES2682921T3
申请日:
2013.04.22
申请国别(地区):
ES
年份:
2018
代理人:
摘要:
Machining process of Cylindrical surfaces of glass pieces based on the modification of Aluminum Oxide with the Achievement of a surface roughness ra of 0.2 - 0.5 nm (2 - 5 angstroms) which includes: the drilling of the preliminary work pieces of pieces of Glass based on the modification of Aluminum Oxide using Diamond Tools.The three stages of the Machining surface with diamond tools in the presence of Lubricating Fluids with the successive reduction of the abrasive Grain size and \/ or 100 to 125 \/ 100 \/ 80 mm,The relief of the internal tension in work pieces by annealing in the muffle FurnaceThe Machining of the surface Polishing, hand Polishing Wheels or soft or semi soft with Grain size of Diamond 5 \/ 2 and 3 \/ 2 \/ 0 OR 1 on oil Alarm,Triboqu\u00edmico Polishing the surface with Polishing Compound Colloidal SiO2 based.Procedimiento de mecanizado de superficies cilíndricas de piezas de cristal basado en la modificación α del óxido de aluminio con el logro de una rugosidad superficial Ra de 0,2-0,5 nm (2-5 Å) que comprende: la perforación de las piezas de trabajo preliminares de piezas de cristal basado en la modificación α del óxido de aluminio usando herramientas de diamantes, el mecanizado en tres etapas de la superficie con las herramientas de diamantes en presencia de fluidos lubricantes con la reducción sucesiva del tamaño de grano abrasivo a 125/100 y/o 100/80 μm, el alivio de la tensión interna en piezas de trabajo mediante recocido en el horno de mufla, el mecanizado de la superficie con pulidoras de mano o ruedas de pulido semiblandas o blandas con tamaño de grano de diamante de 5/3 μm y/o 1/0 μm sobre aceite de reloj, el pulido triboquímico de la superficie con compuestos de pulido basados en SiO2 coloidal .
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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