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纳米二氧化硅基强力霉素分子印迹聚合物的制备及应用
- 专利权人:
- 安徽农业大学
- 发明人:
- 檀华蓉,司雄元,彭超,楼玥
- 申请号：
- CN201310471226.5
- 公开号：
- CN103554363A
- 申请日:
- 2013.10.10
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 何梅生`王伟
- 摘要：
- 本发明涉及纳米SiO2基强力霉素分子印迹聚合物的制备方法，该方法以纳米二氧化硅（Nano-SiO2)为载体，强力霉素（DOC）为模板分子，α-甲基丙烯酸（MAA）、乙二醇二甲基丙烯酸酯（EDMA）及2,2'-偶氮二异丁腈（AIBN）分别为功能单体、交联剂及引发剂，N,N-二甲基甲酰胺（DMF）为溶剂，通过溶解、聚合、氢氟酸（HF）除SiO2、洗脱等步骤得到已除去纳米SiO2的DOC分子印迹聚合物。该印迹聚合物用于固相萃取柱的填料，所制得的固相萃取柱对模板分子（DOC）及3种模板分子类似物四环素（TC）、土霉素（OTC）、金霉素（CTC）均有良好的识别性，对DOC的吸附率可以达到90.2%，对TC的吸附率可以达到85.4%，对OTC的吸附率可以达到83.7%，CTC的吸附率可以达到86.1%。因此，此印迹聚合物可用于动物源性食品中四环素类抗生素残留检测的样品前处理。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
