盆栽植物栽植盆底孔盖
- 专利权人:
- 施建达
- 发明人:
- 施建达
- 申请号：
- CN97206967.4
- 公开号：
- CN2294559Y
- 申请日:
- 1997.01.14
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 1998
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型提出的是盆栽植物栽植盆底孔盖,它包括五大类型,即基本型、调节型、磁化型、化学制剂释放型及复合型,各类型的共同特征是在底孔盖上具有贯通其正背面两面的通透孔(或凹槽),将底孔盖遮盖于栽植盆内底孔上,底孔盖的通透孔(或凹槽)与底孔相通,可供空气与水分流通,确保盆栽植物正常生长发育。由于各类底孔盖的制作材料或结构不同,其功能各有所长,各自具有独特的促进或调控盆栽植物生长发育的作用。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
