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化学増幅型レジスト材料及びレジストパターン形成方法
- 专利权人:
- ＪＳＲ株式会社
- 发明人:
- 中川 恭志,成岡 岳彦,永井 智樹
- 申请号：
- JP20160217575
- 公开号：
- JP2018025739(A)
- 申请日:
- 2016.11.07
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】良好な感度を維持しつつ優れたリソグラフィ性能を発揮することが可能な化学増幅型レジスト材料の提供を目的とする。【解決手段】本発明に係る化学増幅型レジスト材料は、（１）酸の作用により現像液に可溶又は不溶となる重合体成分と、（２）露光により感放射線性増感体及び酸を発生する成分とを含み、上記（２）成分が、（ａ）成分、（ａ）〜（ｃ）成分中の任意の２つの成分、又は（ａ）〜（ｃ）成分の全てを含有し、上記（ａ）成分又は上記（ｃ）成分が、感放射線性を有する第１化合物及び感放射線性を有する第２化合物を有し、上記第１化合物が、第１オニウムカチオンと第１アニオンとを含み、上記第２化合物が、第２オニウムカチオンと上記第１アニオンと異なる第２アニオンとを含み、上記第１オニウムカチオン及び上記第
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
