一种用于高陡岩质边坡的绿化种植结构
- 专利权人:
- 大连地拓环境科技有限公司
- 发明人:
- 李伟,高飞,刘立勋,王酉宁
- 申请号：
- CN201921100766.1
- 公开号：
- CN210406343U
- 申请日:
- 2019.15.07
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型提供了一种用于高陡岩质边坡的绿化种植结构,包括种植槽、蓄水孔、挡水墙、缓冲槽和加强筋,所述种植槽与水平面垂直,沿坡面平行于水平面延伸,所述蓄水孔位于种植槽底部,在种植槽底部垂直水平面向下钻孔所得,所述挡水墙位于种植槽下沿,与种植槽平行,所述缓冲槽位于种植槽上沿,与种植槽平行,所述加强筋位于挡水墙内,与水平面垂直,连接坡面和挡水墙。本实用新型结构简单,实施方便,整体绿化成本低,且对于坡下存在开采作业的坡面,不影响正常开采作业,绿化后的边坡稳定性高,1年后植被覆盖率100%,且后期植被维护成本低,具有较好的社会效益和经济效益。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
