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Photocurable resin composition for nails or artificial nails
专利权人:
가부시끼가이샤 쓰리본드
发明人:
사이토, 에리카,시라카와, 유고
申请号:
KR1020197013779
公开号:
KR1020190098956A
申请日:
2017.12.04
申请国别(地区):
KR
年份:
2019
代理人:
摘要:
The photocurable resin composition for nails or artificial nails of this invention contains the following (A)-(C) component; (A) component: the compound which has a (meth) acryloyl group; (B) component: photoinitiator; (C) component: The (meth) acrylic polymer particle of average particle diameters 3-21 micrometers. According to this invention, the photocurable resin composition for nails or artificial nails which can form the mat coat excellent in transparency and workability is provided.본 발명의 손톱 또는 인공 손톱용 광경화성 수지 조성물은 하기의 (A)∼(C) 성분을 포함한다; (A) 성분: (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물; (B) 성분: 광개시제; (C) 성분: 평균 입자 직경 3∼21㎛의 (메타)아크릴 폴리머 입자. 본 발명에 의하면, 투명성과 작업성이 우수한 매트 코트의 형성이 가능한 손톱 또는 인공 손톱용 광경화성 수지 조성물이 제공된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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