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一种用于磁共振成像的纳米Gd-MOFs的制备方法
专利权人:
武汉科技大学
发明人:
梁文懂,周磊,张海禄
申请号:
CN201710088589.9
公开号:
CN106822926B
申请日:
2017.20.02
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本发明公开了一种用于磁共振成像的纳米Gd‑MOFs的制备方法。该纳米Gd‑MOFs的制备方法包括如下步骤:(1)将金属盐、配体与终止剂溶于溶剂后混合,得到混合溶液;(2)将得到的混合溶液室温搅拌后,置于水浴中搅拌反应,然后放于烘箱中静置,经过离心、清洗后,用溶剂分散保存,得到油相分散的Gd‑MOFs;(3)取一定量步骤(2)得到的Gd‑MOFs离心去除溶剂后,使用含有三乙胺的乙醇溶液改性,最后分散在水中,得到用于磁共振成像纳米Gd‑MOFs。与现有技术相比,本发明制备工艺简单,反应条件温和。本发明制备的纳米Gd‑MOFs粒径在45~60nm之间,呈现类球形,粒度分布均匀,更适合细胞吞噬;在超高场强11.7T测得横向驰豫率r2为96.8mM‑1•s‑1,磁豫率高;克服了纳米Gd‑MOFs细胞毒性高的缺点;在Gd浓度为0.4mmol/L以下时,细胞密堆积T2加权成像效果明显。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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