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青蒿素&吲哚菁绿/超薄水滑石纳米片复合材料及其制备与应用
专利权人:
中国科学院理化技术研究所
发明人:
周树云,杨雪婷,陆军,关山月
申请号:
CN202010469470.8
公开号:
CN113797334A
申请日:
2020.05.28
申请国别(地区):
CN
年份:
2021
代理人:
摘要:
本发明公开了一种青蒿素&吲哚菁绿/超薄水滑石纳米片复合材料及其制备与应用。所述复合材料包括:超薄水滑石纳米片,以及负载于其上的青蒿素或被聚合物保护的青蒿素和吲哚菁绿。其制备方法是:先用一种“自上而下”的方法合成超薄水滑石纳米片,然后通过超声搅拌青蒿素、吲哚菁绿等功能分子与超薄水滑石纳米片,合成所述复合材料。该复合材料在近红外光照射下实现近红外,光声成像的同时有效杀死肿瘤细胞;其中的青蒿素可进一步增强复合产物的治疗效率。该试剂有望用于肿瘤的临床诊断与协同治疗。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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