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一种钛合金表面的HA/TiO2层及其制备方法
专利权人:
上海理工大学
发明人:
马凤仓,刘平,李伟,刘新宽,陈小红,何代华,杨丽红
申请号:
CN201410151053.3
公开号:
CN103908699B
申请日:
2014.04.16
申请国别(地区):
CN
年份:
2016
代理人:
摘要:
本发明提供一种钛合金表面的HA/TiO2层,该HA/TiO2层与钛合金基体的结合强度为15~28MPa,其特征在于,包括:包覆在所述钛合金表面的多孔的TiO2层;以及生长在所述TiO2层上的HA层。本发明还提供一种制备上述钛合金表面的HA/TiO2层的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一,配置微弧氧化处理液;步骤二,微弧氧化处理;步骤三,配置电化学沉积液;步骤四,电化学沉积。根据本发明的钛合金表面的HA/TiO2层与基体具有很高的结合强度,满足医学应用需求,该HA/TiO2层的制备方法首先采用微弧氧化的方法使钛合金表面形成一层含钙、磷的多孔TiO2层,然后采用电化学沉积法在TiO2层表面制备HA层,该HA生物活性涂层与基体的结合强度高,生长速率快,适合商业化生产。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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