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DEODORANT STRUCTURE
专利权人:
公益財団法人相模中央化学研究所;東ソー株式会社;TOSOH CORP;SAGAMI CHEMICAL RESEARCH INSTITUTE
发明人:
SUDO YUKINORI,須藤 幸徳,MASUDA TAKAHIRO,増田 隆洋,KOBAYASHI OSAMU,小林 修,HIRAI KENJI,平井 憲次
申请号:
JP2019114363
公开号:
JP2020006158A
申请日:
2019.06.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
To provide a deodorant structure that can quickly and persistently scavenge aldehydes.SOLUTION: Aldehydes are removed using a deodorant structure obtained by including in a base material one or more selected from O-substituted hydroxylamine derivatives represented by the general formula (1) in the figure and chemically acceptable salts thereof. (In the formula, R represents a hydrogen atom or C1-4 alkyl group; n represents an integer from 1 to 6; and multiple occurrences of R may be identical or different.)SELECTED DRAWING: None【課題】 アルデヒド類を速やかに且つ持続的に捕捉できる消臭性構造物を提供する。【解決手段】 基材に下記一般式(1)で表されるO-置換ヒドロキシルアミン誘導体又はその化学的に許容される塩を1種以上含有させて消臭性構造物のアルデヒドを除去する。【化1】(式中、Rは水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。nは1~6の整数を表す。複数のRは同一又は相異なっていてもよい。)【選択図】 なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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