A beam profile measurement (BPM) system is described including a BPM phantom including a tank to house liquid, a dosimeter disposed in the tank to detect ionization of a radiation beam emitted from a linear accelerator (LINAC), and a positioning device to move the dosimeter in a vertical direction. The BPM system also includes a BPM controller to operably couple to the BPM phantom and the LINAC. A method is described including positioning, using a BPM controller, a dosimeter of the BPM phantom in a first location, positioning, using the BPM controller, the LINAC in a second location, performing, using the BPM controller, a first movement of the LINAC from the second location to a third location, emitting a radiation beam from the LINAC during the first movement, and performing, via the dosimeter, an ion measurement of the radiation beam during the emitting.L'invention concerne un système de mesure de profil de faisceau (BPM) comprenant un fantôme de BPM comportant un réservoir destiné à recevoir un liquide, un dosimètre disposé dans le réservoir pour détecter une ionisation d'un faisceau de rayonnement émis par un accélérateur linéaire (LINAC), et un dispositif de positionnement pour déplacer le dosimètre dans une direction verticale. Le système BPM comprend également un dispositif de commande BPM pour se coupler fonctionnellement au fantôme BPM et au LINAC. L'invention concerne un procédé consistant à positionner, à l'aide d'un dispositif de commande BPM, un dosimètre du fantôme BPM dans un premier emplacement, à positionner, à l'aide du dispositif de commande BPM, le LINAC dans un deuxième emplacement, à réaliser, à l'aide du dispositif de commande BPM, un premier déplacement du LINAC du deuxième emplacement à un troisième emplacement, à émettre un faisceau de rayonnement à partir du LINAC pendant le premier déplacement, et à réaliser, au moyen du dosimètre, une mesure d'ions du faisceau de rayonnement pendant l'émission.
