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集成POSS和MCM-41-MPS掺杂的卡培他滨分子印迹缓控释材料的制备方法
专利权人:
天津医科大学
发明人:
黄艳萍,杨芳芳,刘照胜
申请号:
CN201810626580.3
公开号:
CN108939082A
申请日:
2018.06.19
申请国别(地区):
CN
年份:
2018
代理人:
摘要:
本发明涉及一种集成POSS(多面体低聚倍半硅氧烷)和MCM‑41‑MPS掺杂的卡培他滨分子印迹缓控释材料的制备方法,具体为掺杂多面体低聚倍半硅氧烷和介孔分子筛MCM‑41的卡培他滨分子印迹缓控释材料的制备方法及性能评价。结果表明POSS和MCM‑41‑MPS同时存在可以显著提高分子印迹聚合物的选择性识别能力和吸附性能,产生更好的印迹效果,而且对聚合物的比表面积和孔径分布等产生一定的影响。将杂化MIP作为卡培他滨的载体材料,体外和体内药物释放实验证明了最佳配方的药物释放时间明显延长和相对生物利用度(F为173.4%)明显提高,所以将其用于卡培他滨的缓控释材料有很大的研究意义和实用价值。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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