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Improvements relating to skin dressings
专利权人:
发明人:
제젝, 잔,왓슨, 린네, 패트리시아
申请号:
KR1020107005214
公开号:
KR1015069330000B1
申请日:
2008.07.14
申请国别(地区):
KR
年份:
2015
代理人:
摘要:
A skin dressing is provided comprising a first component comprising a source of protons, a second component comprising a nitrite salt, the dressing comprising a non-thiol reductant, such that, when the first and second components are brought together and applied to a skin site the nitrite reacts to generate nitric oxide, increasing the pH of the dressing in contact with the skin from an acidic value to a more neutral value.본 발명은 양성자의 공급원을 포함하는 제1 구성요소, 아질산염을 포함하는 제2 구성요소를 포함하는 피부 드레싱(dressing)에 관한 것으로서, 상기 드레싱은 비-티올(non-thiol) 환원제를 포함하며, 제1 구성요소와 제2 구성요소가 함께 제공되어 피부 부위에 적용되는 경우, 상기 아질산염이 반응하여 산화질소를 생성함으로써, 피부와 접촉하는 드레싱의 pH를 산성 값으로부터 보다 더 중성인 값으로 증가시키도록 되어 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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