abstract "device for providing a flow of a plasma" means a device 100 for forming at ambient atmospheric pressure a gaseous plasma comprising active species for treatment of a treatment region. The device comprises a plasma cell 112 for forming the gaseous plasma. the plasma cell comprises an inlet 116 for receiving gas from a source 118 and an outlet 119 for discharging active species generated therein. a dielectric substrate 22 preferably made of a polyimide wraps around a flow path for gas transported from inlet to outlet and an electrode 26 is formed on the dielectric substrate to energize gas along the flow path to form species. active. a protective coating 32 is located on an inner surface of the dielectric substrate 22 to resist the reaction of the active species with the dielectric substrate material 22. a ground electrode 140 comprising an electrode formed on a substantially circumferentially at least partially dielectric substrate overlaps the plasma cell.resumo “dispositivo para fornecer um fluxo de um plasma” um dispositivo 100 para formar a uma pressão atmosférica ambiente um plasma gasoso compreendendo espécie ativa para tratamento de uma região de tra-tamento. o dispositivo compreende uma célula de plasma 112 para formar o plasma gasoso. a célula de plasma compreende uma entrada 116 para receber gás de uma fonte 118 e uma saída 119 para descarregar espécies ativas geradas na mesma. um substrato dielétrico 22, de preferência feito de uma poli-imida envolve em torno de um caminho de fluxo para gás transportado da entrada para a saída e um eletrodo 26 é formado no substrato dielétrico para energizar gás ao longo do caminho de fluxo para formar espécies ativas. um revestimento de proteção 32 está localizado numa superfície interna do substrato dielétrico 22 para resistir à reação da espécie ativa com o material do substrato dielétrico 22. um eletrodo de terra 140 compreen-dendo um eletrodo formado num substrato dielétrico substancialmente circunda e pelo
