The implant material includes a base material 10 and a carbonaceous film 20 formed on the surface of the base material 10. The carbonaceous film 20 has a carbon atom, an oxygen atom, and a nitrogen atom on its surface, and a carbon atom bonds with an oxygen atom to form a mono-bonding carbon and a carboxyl group carbon adjacent to oxygen. The content of nitrogen atoms in the surface of the carbonaceous film 20 is 8.0 atomic% or more, the content of single-bond carbon adjacent to oxygen is 5.4 atomic% or more, and the content of carboxyl group carbon is 3.1 atomic% or less.임플란트용 재료는, 기재(基材)(10)와, 기재(10) 표면에 형성된 탄소질 막(20)을 구비한다. 탄소질 막(20)은, 그 표면에 있어서 탄소 원자, 산소 원자 및 질소 원자를 가지며, 탄소 원자는 산소 원자와 결합하여 산소에 인접한 일중결합성 탄소 및 카르복시기 탄소를 형성한다. 탄소질 막(20)의 표면에 있어서 질소 원자의 함유율은 8.0원자% 이상이며, 산소에 인접한 일중결합성 탄소의 함유율은, 5.4원자% 이상이며, 카르복시기 탄소의 함유율은 3.1원자% 이하이다.
