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STRUCTURE FOR PRESSURE RELIEF PAD
专利权人:
AMED CO.; LTD.
发明人:
WANG, YAO-CHIEN,王耀乾,王耀乾,YANG, CHIH-CHAO,杨智超,楊智超
申请号:
TW104211337
公开号:
TWM519518U
申请日:
2015.07.14
申请国别(地区):
TW
年份:
2016
代理人:
摘要:
The present application provides a structure for pressure relief pad. This structure includes a substrate layer which is made from a pressure absorption material, and at least one supplementary layer attached to the substrate layer which is made from an adhesive material. When the structure is applied between a mask and the skin, the occurrence of pressure ulcer is reduced.本創作為一種紓壓墊結構,包括一基層,係由一具壓力吸收性材質組成;以及至少一輔助層,貼合於該基層,其中該至少一輔助層,係由一具黏著性材質組成。本紓壓墊結構可用於穿戴呼吸器之時,可減緩使用者臉部皮膚壓瘡之發生及不舒適感。(300)‧‧‧紓壓墊結構(10)‧‧‧基層(20)‧‧‧輔助層(30)‧‧‧覆蓋層
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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