Die Erfindung betrifft ein UV-Desinfektionssystem zur Behandlung von Gasen und/oder Flüssigkeiten mit UV-Strahlung, umfassend zumindest ein optisches System in Form einer UV-Lichtquelle sowie einen Reaktor, wobei der Reaktor die Form eines zylindrischen Hohlkörpers aufweist, der Seitenflächen, ein erstes die Seitenflächen verbindendes Teil oder Abschlussteil, gegebenenfalls ein weiteres die Seitenflächen verbindendes Teil oder Eintrittsteil, sowie einen zur Vorder- und Rückseite offenen Innenraum umfasst, durch den das Medium strömt oder in dem es vorliegt, wobei der Reaktor, der bevorzugt ein Durchflussrektor ist, zumindest teilweise in Form eines Reflektors ausgebildet ist, der vom oder für das optische System ausgesandte Strahlung in den Innenraum des Reaktors reflektiert, wobei der Reaktor in zwei Funktionsbereiche unterteilt ist, einen ersten Funktionsbereich F1, welcher dem mindestens einen optischen System am nächsten liegt, und einen zweiten Funktionsbereich F2, welcher von dem mindestens einen optischen System weiter entfernt angeordnet ist als der erste Funktionsbereich F1, wobei sich im Betriebszustand des Systems Strahlung im ersten Funktionsbereich im Wesentlichen ungehindert ausbreiten kann und im zweiten Funktionsbereich im Wesentlichen Überlagerungen der Strahlung vorliegen unda) im ersten Funktionsbereich F1 des Reaktors der Abstand zwischen den sich gegenüberliegenden Seitenflächen des Reaktors sich mit zunehmender Entfernung zu dem mindestens einen optischen System vergrößert, bevorzugt sich kontinuierlich vergrößert und das mindestens eine optische System außerhalb des Reaktors angeordnet istoderb) der Reaktor mindestens zwei zweite Funktionsbereiche aufweist, wobei im zweiten Funktionsbereich F2 jeweils der Abstand zwischen den sich gegenüberliegenden Seitenflächen des Reaktors mit zunehmender Entfernung zu dem mindestens einen optischen System, vorzugsweise kontinuierlich, abnimmt und das mindestens eine optische System innerhalb des Reaktors a
