您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

Generation of magnetic resonance-based tomograms
专利权人:
Siemens Aktiengesellschaft
发明人:
Mathias Nittka,Vladimir Jellus
申请号:
DE102012203288
公开号:
DE102012203288B4
申请日:
2012.03.02
申请国别(地区):
DE
年份:
2015
代理人:
摘要:
Verfahren zur Erzeugung von magnetresonanzbasierten Schichtaufnahmen (KS1, KS2, KS3, ..., KS8) eines Untersuchungsobjekts (O), mit zumindest folgenden Schritten:– Gewinnung von Messdaten für einen Stapel von Mess-Schichten (WS1, WS2, WS3, ..., WS9, FS1, FS2, FS3, ..., FS9) durch das Untersuchungsobjekt (O) mittels einer Abfolge von Schicht-Messsequenzen,wobei die Folge von Schicht-Messsequenzen so aufgebaut ist, dass sie eine Trennung eines ersten Materials von einem zweiten Material, das eine definierte chemische Verschiebung zum ersten Material aufweist, erlaubt und dabei die Position (PWS1, PWS2) einer Mess-Schicht (WS1, WS2, WS3, ..., WS9) mit Messdaten für das erste Material gegenüber der Position (PFS1) einer Mess-Schicht (FS1, FS2, FS3, ..., FS9) mit Messdaten für das zweite Material räumlich verschoben ist,– Bildung von Kombinations-Schichtaufnahmen (KS1, KS2, KS3, ..., KS8), in welchen jeweils das erste und das zweite Material dargestellt ist, wobei Messdaten des ersten Materials aus zumindest einer ersten Schicht-Messsequenz derart mit Messdaten des zweiten Materials aus zumindest einer zweiten Schicht-Messsequenz kombiniert werden, dass in den Kombinations-Schichtaufnahmen (KS1, KS2, KS3, ..., KS8) die Bilddaten des ersten und des zweiten Materials räumlich zumindest innerhalb eines vorgegebenen Toleranzmaßes lagegenau zueinander angeordnet sind.Method for generating magnetic resonance-based tomograms (KS1, KS2, KS3,..., KS8) of an examination object (O), comprising at least the following steps: - obtaining measured data for a stack of measuring layers (WS1, WS2, WS3, .. ., WS9, FS1, FS2, FS3, ..., FS9) through the examination subject (O) by means of a sequence of slice measurement sequences, wherein the sequence of slice measurement sequences is constructed such that it separates a first material from one second material,
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充