Composition A low irritancy cleansing composition comprises: (a) an anionic surfactant compound of formula (I): wherein R1 represents a C4-36 substituted or unsubstituted hydrocarbyl group each of R2, R3, R4 and R5 independently represents a hydrogen atom or a C1-4 alkyl group and wherein at least one of R2, R3, R4 and R5 is not hydrogen and M+ represents a cation (b) an amphoteric surfactant and (c) an alkoxylated non-ionic species wherein the molar ratio of component (a) to component (b) is from 0.5:1 to 2:1 and wherein the ratio of the mass of component (c) to the combined mass of components (a) and (b) is less than 1.2:1.Linvention concerne une composition de nettoyage faiblement irritante qui comprend: (a) un composé tensio-actif anionique de formule (I): R1 étant un groupe hydrocarbyle à substitution C4-36 ou non R2, R3, R4 et R5 étant chacun indépendamment un atome dhydrogène ou un groupe alkyle C1-4 et au moins lun des éléments R2, R3, R4 et R5 nétant pas hydrogène et M+ étant un cation (b) un tensioactif amphotérique et (c) une espèce non ionique alcoxylée le rapport molaire entre le composant (a) et le composant (b) étant compris entre 0.5:1 et 2:1 et le rapport entre la masse du composant (c) et la masse combinée des composants (a) et(b) étant inférieur à 1.2:1.
