一种用于表面组织处理的光照射设备、方法和存储介质
- 专利权人:
- 苏州科医世凯半导体技术有限责任公司
- 发明人:
- 王海洋,杨西斌,杨斐,熊大曦
- 申请号：
- CN202010856032.7
- 公开号：
- CN112137716A
- 申请日:
- 2020.08.24
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本公开涉及光电技术领域，尤其涉及一种用于表面组织处理的光照射设备、方法和存储介质。所述设备包括：照射单元，包括至少一个光源；容许所述照射单元发射的光束穿过的出光口，和控制器，能够控制所述照射单元从所述出光口的不同区域分时发射光束，以照射所述目标表面组织。本公开通过控制所述照射单元从所述出光口的不同区域分时发射光束，提高单位能量密度，降低单位时间内的光照射面积，减少疼痛和非目标表面组织伤害，且便于实现大面积表面组织的照射处理。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
