合成有机聚合物的稳定剂混合物
- 专利权人:
- 希巴-盖吉股份公司
- 发明人:
- M·博诺拉
- 申请号：
- CN96105445.X
- 公开号：
- CN1136574A
- 申请日:
- 1996.04.23
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 1996
- 代理人:
- 任宗华
- 摘要：
- 含有合成有机聚合物及作为抗光、氧和/或热的有害影响的稳定剂的下列A和B混合物的组合物：A)空间位阻的羟胺或其醚或酯，和B)含有连接到金属原子的氧和/或羟基的化合物。显示出优秀的抗光、氧和/或热的有害影响的稳定性。成分A和成分B的混合物对稳定聚烯烃或烯烃共聚物薄膜以用于农业抗光、氧、热和农药的有害影响也是有效的。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
