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POLYMÈRE D'URÉTHANE ET COMPOSITION HUILEUSE CONTENANT CE POLYMÈRE
专利权人:
ADEKA CORPORATION;株式会社ADEKA
发明人:
MATSUKURA, Noriyoshi,松倉範佳,MIYAZONO, Keitarou,宮園圭大郎,MASUKAWA, Ryo,舛川諒
申请号:
JPJP2019/049346
公开号:
WO2020/137679A1
申请日:
2019.12.17
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
The present invention provides a urethane polymer having a structure represented by general formula (1), an oil composition in which the urethane polymer is dissolved, and a cosmetic composition containing the oil composition (in the formula, R1 and R2 each independently represent a C5-40 alkylene group, Z1 and Z2 each represent an oxyalkylene group represented by general formula (2) or (3) provided in the description, R3 represents a diisocyanate residue, X1 represents a hydrogen atom or a group represented by general formula (4) provided in the description, X2 represents a hydrogen atom or a group represented by general formula (5) provided in the description, and n represents a number from 1 to 20 (provided that n represents 1 when X1 and X2 are a hydrogen atom)).La présente invention concerne un polymère d'uréthane ayant une structure représentée par la formule générale (1), une composition huileuse dans laquelle ce polymère d'uréthane est dissous et une composition cosmétique contenant cette composition huileuse (dans la formule, R1 et R2 représentent chacun indépendamment un groupe alkylène en C5-40, Z1 et Z2 représentent chacun un groupe oxyalkylène représenté par la formule générale (2) ou (3) indiquée dans la description, R3 représente un résidu diisocyanate, X1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe représenté par la formule générale (4) indiquée dans la description, X2 représente un atome d'hydrogène ou un groupe représenté par la formule générale (5) indiquée dans la description et n représente un nombre compris entre 1 et 20 (à condition que n soit égal à 1 lorsque X1 et X2 représentent un atome d'hydrogène)).本発明は、下記の一般式(1)で表される構造を有するウレタンポリマー及び該ウレタンポリマーが溶解した油類組成物ならびに該油類組成物を含む化粧料組成物を提供する。(式中、R1、R2はそれぞれ独立して炭素数5~40のアルキレン基を表し、Z1、Z2はそれぞれ明細書に記載の一般式(2)、(3)で表されるオキシアルキレン基を表し、R3はジイソシアネート残基を表し、X1は水素原子又は明細書に記載の一般式(4)で表される基を表し、X2は水素原子又は明細書に記載の一般式(5)で表される基を表し、nは1~20の数を表す(但し、X1およびX2が水素原子であるとき、nは1を表す)。)
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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