The invention relates to an apparatus for providing ultrapure water, in particular ultrapure water for use in semiconductor fabrication. This apparatus comprises at least one cylindrical reactor with an inner cylindrical shell, an outer cylindrical shell and a channel-like volume between inner shell and outer shell. According to the invention - said inner cylindrical shell houses at least one UV emission device, - said outer cylindrical shell comprises at least one means for reflecting UV radiation, and - said channel-like volume is provided for flowing water through the reactor.L'invention concerne un appareil pour fournir de l'eau ultra pure, en particulier de l'eau ultra pure destinée à être utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs. Cet appareil comprend au moins un réacteur cylindrique ayant une coque cylindrique interne, une coque cylindrique externe et un volume de type canal entre la coque interne et la coque externe. Selon l'invention, - ladite coque cylindrique interne loge au moins un dispositif d'émission UV, - ladite coque cylindrique externe comprend au moins un moyen de réflexion de rayonnement UV, et - ledit volume de type canal est prévu pour faire circuler de l'eau à travers le réacteur.
