X射线透视摄影装置以及X射线透视图像的余像修正方法
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 藤川真里,天明宏之助,万木贵宏,中村正
- 申请号：
- CN201610094436.0
- 公开号：
- CN106073809B
- 申请日:
- 2016.19.02
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种X射线透视摄影装置以及X射线透视图像的余像修正方法,其在交替地重复进行摄影和透视的情况下,也能够高精度地修正余像成分。在每次取得X射线的摄影图像时,得到摄影后的余像图像,针对本次摄影后得到的余像图像和上次以前的摄影后得到的余像图像,对对应的每个像素计算余像图像的像素值因时间经过产生的衰减后的值。然后,从本次摄影后得到的透视图像的像素值减去计算出的衰减后的值,由此除去余像。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
