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一种超薄Ta-W合金箔材的制备方法
专利权人:
中南大学
发明人:
汪明朴,陈畅,王珊,谭望,贾延琳,李周,夏福中,张真
申请号:
CN201310029982.2
公开号:
CN103084388B
申请日:
2013.01.25
申请国别(地区):
中国
年份:
2015
代理人:
颜勇
摘要:
本发明提供了一种超薄Ta-W合金箔材的制备方法;属于Ta-W合金加工技术领域。本发明包括粉末冶金法制备合金坯锭、冷轧开坯、冷轧/真空退火的循环操作以及3~5μm箔材的退火等步骤;所制备的箔材厚度可达到3~5μm,本发明工艺简单,制备的箔材精度高,与纯Ta箔材以及其他Ta-W合金箔材相比具有强度高、表面质量好等优点。本发明所制备厚度为3~5μm的Ta-(5.0~7.5wt%)W合金箔材适用于电子电工、航空航天等工业上大功率微波管和行波管等真空器件。本发明在实现大功率高性能微波管国产化、提高微波管使用性能和使用寿命等方面具有重要意义。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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