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一种栽培装置及补偿作物根层氧损耗的方法
专利权人:
中国农业科学院麻类研究所
发明人:
周晚来,王朝云,易永健,谭志坚,杨媛茹,余旺,汪洪鹰
申请号:
CN201810507790.0
公开号:
CN108901446A
申请日:
2018.05.24
申请国别(地区):
中国
年份:
2018
代理人:
王莹`吴欢燕
摘要:
本发明提供一种栽培装置及补偿作物根层氧损耗的方法,该栽培装置包括含有底部且可容置栽培介质的腔体,所述腔体的侧壁和/或底部的表面设有多孔膜,所述腔体的侧壁和/或底部设有透气孔,所述多孔膜中孔径为150~500μm的孔占比大于45%,所述多孔膜的孔隙率大于60%。本发明提供的栽培装置以及补偿作物根层氧损耗的方法可以有效补偿栽培装置内壁面根区的氧消耗,增加了根系氧供应,改善了作物生长环境。本发明提供的方法操作简单,节药了成本。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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