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ベンゾトリアゾール誘導体化合物の製造方法
专利权人:
SHIPRO KASEI KAISHA LTD
发明人:
IWAMOTO TAKUYA,岩本 拓也,UESAKA TOSHIYUKI,上坂 敏之
申请号:
JP2018024821
公开号:
JP2018168148A
申请日:
2018.02.15
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
To provide a method of producing a benzotriazole derivative compound of the general formula (1) in the figure capable of being suitably used as a highly light-resistant ultraviolet absorber or resin composition that exhibits an ultraviolet-blocking function over a prolonged period of time and that strongly absorbs the ultraviolet light range of 400 nm or less while ensuring little coloration.SOLUTION: A reaction path in a production method comprises reacting 4-carboxy-2-nitrobenzenediazonium salt with 1,3-dimethoxybenzene. [Rand Rare H Ris an alkyl group Ris H, an alkyl group, acryloyloxyalkyl or methacryloyloxy alkyl group.]SELECTED DRAWING: Figure 1【課題】400nm以下の紫外線領域を強く吸収しながら着色が少なく、さらに長期にわたって紫外線遮断機能を示す高い耐光性をもつ紫外線吸収剤や樹脂組成物として好適に用いることができる一般式(1)のベンゾトリアゾール誘導体化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】製造方法の反応経路のなかで、4-カルボキシ-2-ニトロベンゼンジアゾニウム塩と1,3-ジメトキシベンゼンとを反応させる工程を経る。[R1およびR2がH,R3がアルキル基,R4がH、アルキル基、アクリロイルオキシアルキル基またはメタクリロイルオキシアルキル基]【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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