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KIT DENTAIRE
专利权人:
DENTICARE IMPLANTOLOGY CENTER S.R.L.
发明人:
VLĂDILĂ, Bogdan Constantin
申请号:
RORO2016/000024
公开号:
WO2017/086820A2
申请日:
2016.08.24
申请国别(地区):
RO
年份:
2017
代理人:
摘要:
The invention relates to a dental kit used for accelerating the recovery of the tissues affected by the insertion of an implant, and, implicitly, the osteointegration thereof, and also for treating diseases in the oral-maxillofacial area, such as periodontosis. According to the invention, the dental kit comprises two external mouth guards (A and B), the first of which has three work-points, and the second one has two work-points, an external mouth guard (F) with multiple work-points, a material (12) consisting of a polymer with high polarity and an apparatus (D) generating an electromagnetic field which generates, inside the mouth guards (A or B or F), a uniform field with an induction ranging between 0.7...0.9 mT, with a variation ranging between 5...10%, in the area subjected to the electromagnetic field, on a distance of 1 cm around the same point, and on a volume as high as possible in the areas where the tooth root or the implant is to be positioned, produced by a current of 200 mA, with a frequency ranging between 7...8 Hz, preferably 7.69 Hz, the field lines being perpendicular on the target-tissue.L'invention concerne un kit dentaire utilisé pour accélérer la guérison des tissus affectés par l'insertion d'un implant et, implicitement, son ostéointégration, et également pour traiter des maladies de la zone bucco-maxillo-faciale, telles que la parodontose. Selon l'invention, le kit dentaire comprend deux gouttières (A et B) externes, dont la première présente trois points de travail, et la seconde deux points de travail, une gouttière (F) externe dotée de plusieurs points de travail, un matériau (12) constitué d'un polymère présentant une polarité élevée et un appareil (D) générant un champ électromagnétique qui produit, dans les gouttières (A ou B ou F), un champ uniforme avec une induction comprise entre 0,7 et 0,9 mT, avec une variation comprise entre 5 et 10 %, dans la zone soumise au champ électromagnétique, sur une distance de 1 cm autour du même point,
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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