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洗浄剤組成物
专利权人:
KAO CORPORATION
发明人:
KATSUTA, Izumi,勝田 泉,ENDOU, Kouji,遠藤 浩二,HIRAHARA, Mayuko,平原 麻由子,OZAWA, Satoshi,小澤 聡史,NISHISAKA, Eiko,西阪 瑛子,KITOU, Tetsuji,鬼頭 哲治
申请号:
JPJP2014/068538
公开号:
WO2015/059961A1
申请日:
2014.07.11
申请国别(地区):
WO
年份:
2015
代理人:
摘要:
A cleanser composition which contains the following components (A), (B) and (C). (A) from 0.02% by mass to 10% by mass (inclusive) of a polymer that contains, as constituent units, (a1) a constituent unit represented by general formula (1) (wherein each of R1 and R2 represents a C1-C4 alkyl group which may contain a hydroxyl group or a hydrogen atom, and R3 represents a hydrogen atom or a methyl group) and (a2) a constituent unit represented by formula (2) (wherein R4 represents a linear or branched C1-C22 alkyl group, and R5 represents a hydrogen atom or a methyl group) in an amount of 85-100% by mass (B) from 0.5% by mass to 40% by mass (inclusive) of an anionic surfactant (C) waterLinvention concerne une composition nettoyante qui contient les éléments suivants (A), (B) et (C). (A) de 0,02 % en masse à 10 % en masse (inclus) dun polymère qui contient, comme unités constituantes, (a1) une unité constituante représentée par la formule générale (1) (où chacun de R1 et R2 représente un groupe alkyle C1-C4 qui peut contenir un groupe hydroxyle ou un atome dhydrogène, et R3 représente un atome dhydrogène ou un groupe méthyle) et (a2) une unité constituante représentée par la formule (2) (où R4 représente un groupe alkyle C1-C22 linéaire ou ramifié, et R5 représente un atome dhydrogène ou un groupe méthyle) dans une quantité de 85-100 % en masse, (B) de 0,5 % en masse à 40 % en masse (inclus) dun tensioactif anionique, et (C) de leau.次の成分(A)、(B)及び(C): (A)a1:一般式(1)(R1及びR2は、水酸基を含んでも良い炭素数1~4のアルキル基又は水素原子、R3は、水素原子又はメチル基) で表される構成単位、 a2:一般式(2)(R4は、炭素数1~22の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、R5は、水素原子又はメチル基) で表される構成単位を、構成単位として85~100質量%含むポリマー 0.02質量%以上10質量%以下、 (B)アニオン界面活性剤 0.5質量%以上40質量%以下、 (C)水 を含有する洗浄剤組成物。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

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