共聚物树脂,其制备方法及用其制成的光致抗蚀剂
- 专利权人:
- 现代电子产业株式会社
- 发明人:
- 郑旼镐,郑载昌,卜喆圭,白基镐
- 申请号：
- CN98126607.X
- 公开号：
- CN1226565A
- 申请日:
- 1998.12.29
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 1999
- 代理人:
- 丁业平
- 摘要：
- 本发明涉及一种使用于远紫外线(像KrF或ArF)的光致抗蚀剂的共聚物树脂、其制备方法及包含此树脂的光致抗蚀剂。本发明的共聚物因其可将顺－5－降冰片烯－内－2,3－二羧酸单甲酯单元导入用作光致抗蚀剂之降冰片烯－顺丁烯二酸酐共聚物的结构中,因此可以传统自由基聚合反应容易地制备。此树脂在193nm波长时具有高的透明性,蚀刻阻抗性增加,并解决了在共聚物树脂合成过程中产生刺激性气味的问题。再者,因为此树脂组成由于分子结构的原因,所以可轻易的控制,因此,此树脂可以大规模地制造。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
